半導體專用氫氣發生器是一種被廣泛認可和接受的氫氣鋼瓶替代方案。一臺氫氣發生器可以持續地提供高純度的氫氣來滿足氣相色譜儀工作時的載氣需求，并且投資成本收回周期較短。氫氣發生器可以提供純度高達99.9999%的氫氣來用作載氣，或者用作燃燒氣來支持某些檢測器的運行。
半導體專用氫氣發生器
使用半導體專用氫氣發生器時，首先需要用原料氫置換系統，從閥3放空，待系統內的高純氮置換干凈后，根據原料氫中的含氫量和所需高純氫量，參照表一數據，來選定操作溫度、操作壓力和馳放氣量，然后再通電加熱鈀管，從閥2流出高純氫。
調溫方法可以根據隨機所帶的說明書進行溫度設定。從鈀擴散制得的高純氫到實際獲得的高純氫，還需要置換閥2前管線的一段時間，通常約需2~3小時。由于設備在出廠前都要經過產品質量檢驗，因此閥1和閥3管線內充有高純氮，閥2到管線前那段管線充有高純氮。當設備停止使用時，應先停電，待裝置冷卻后各閥門都關閉再停氣，以便在下次使用時減少置換系統的時間。
一般來說，在鈀管厚度一定的情況下，進出口壓力差越大，溫度越高，則氫的滲透量越大。但平均壓力以8~3公斤/平方厘米為宜，操作溫度為300~400℃。電壓也應保持在2.3V左右。
半導體專用氫氣發生器通過壓縮機對空氣或其他氣體進行壓縮，儲存在儲氣罐中，以便使用。它主要由壓縮機、儲氣罐、過濾器、干燥室等部分組成。具有電解面積大、池溫低、性能好、產氣量大、純度高等優點。
