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2024-12-302024-12-182024-11-182024-10-22![半導體專用氫氣發生器(CVD,MOCVD專用)|普拉勒(南京)儀器科技有限公司[英國普拉勒]](http://img47.chem17.com/gxhpic_4392e630c4/a10e47f466ff8fb578fb07ae3aac588d2b7c3c8ae27d4eaaf2e9d213b509c4d97771750f90cb0f09_220_220_5.jpg)
半導體專用氫氣發生器(CVD,MOCVD專用)不僅能夠提供高純度、穩定壓力的氫氣，還具有多項結構優勢和應用功能，是半導體制造過程中重要的設備。
大流量氫氣發生器可以連續可靠的產生純度很高的氫氣，純度99.999%。從而使昂貴且危險的高壓氫氣鋼瓶告別實驗室，因更換鋼瓶而中斷重要分析工作的情況將不復存在。
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